Импульсный порошковый питатель для установки детонационного напыления предназначен для использования в установках для газотермического нанесения покрытий, преимущественно в ...
ҮйлчилгээПитание установки: 1x230 V, 50/60 Hz: Подача порошка (регулировка плавная), г/мин: 1-160: Точность дозирования, % ±2: Газ плазмообразующий, транспортирующий и
ҮйлчилгээRU128884U1 - Порошковый питатель с двухбункерной системой подачи порошка для установки плазменной наплавки - Google Patents
ҮйлчилгээВ предложенном порошковом питателе, содержащем бункер и дозирующий узел, содержащий смеситель с отверстием в основании для подачи порошка,
ҮйлчилгээПитатель порошка. Идеальное покрытие благодаря точной подаче. Особый принцип подачи пластиной с всасывания порошка гарантирует точную и воспроизводимую скорость подачи.
Үйлчилгээ2003年7月16日 Питатель порошковых и пылевых материалов установки инжекционной обработки ... Такая конструкция обеспечивает интенсивную выдачу
ҮйлчилгээПитатель порошковый PF 2/2 обеспечивает стабильную, плавно регулируемую подачу порошка по двум независимым линиям одновременно. Управляется питатель
ҮйлчилгээПоставленная задача решается конструкцией питателя с устройством забора порошка, выполненного в виде бункера с порошком, который состоит из двух
ҮйлчилгээПорошковый питатель. Порошковые питатели предназначены для содержания порошка, регулирования его расхода и обеспечения стабильной и равномерной подачи через плазмотрон в зону наплавки.
ҮйлчилгээХарактерные особенности: Механизм подачи порошка EP2 в сочетании с нашими источниками плазмы и горелками подходят для любых задач. EP2 - более сложный
Үйлчилгээ